Línea de recubrimiento de vidrio de vacío de baja emisividad de múltiples capas Control PLC de recubrimiento de vidrio de vacío
Línea de recubrimiento con vacío de vidrio de baja emisividad de múltiples capas
,Línea de recubrimiento de vidrio al vacío de control PLC
,Control por PLC del revestimiento de vacío de vidrio
Basado en décadas de experiencia en sistemas de recubrimiento al vacío de gran superficie, Goldstone puede diseñar y fabricar cámaras de vacío complejas y flexibles según los requisitos de los clientes. Las cámaras son fabricadas por fabricantes profesionales utilizando herramientas de máquinas CNC avanzadas.
Línea de recubrimiento de vidrio de baja emisividad para automoción con pulverización catódica por magnetrón de alta eficiencia
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
Línea de recubrimiento de vidrio de baja emisividad de alta producción continua con recubrimiento de larga duración y tamaño personalizado
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
Sistema de recubrimiento de vidrio con vacío de baja emisión ultraclaro Control PLC Gran capacidad
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
Línea horizontal de recubrimiento de vidrio bajo E a gran escala con vacío
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
