Linha de Revestimento a Vácuo de Vidro de Baixa Emissividade Multicamadas, Revestidor a Vácuo de Vidro, Controle PLC
Linha de Revestimento a Vácuo de Vidro de Baixa Emissividade Multicamadas
,Linha de Revestimento a Vácuo de Vidro com Controle PLC
,Revestidor a Vácuo de Vidro com Controle PLC
Com base em décadas de experiência em sistemas de revestimento a vácuo de grande área, a Goldstone pode projetar e fabricar câmaras de vácuo complexas e flexíveis de acordo com os requisitos dos clientes. As câmaras são fabricadas por fabricantes profissionais usando ferramentas de máquinas CNC avançadas.
Linha de Revestimento de Vidro Automotivo de Baixa Emissividade por Magnetron Sputter de Alta Eficiência
Low-E Glass Magnetron Sputter Coating Line Advanced Vacuum Magnetron Sputter Coating Production Line Specification: 1. 2540 X 3660 mm, 100" X 144" 2. 2540 X 6000 mm, 100" X 240" 3. Cycle time 60 s/ sheet 4. Single silver, double silver, triple silver Low-E glass Feature: 1. State-of-the-art vacuum ...
Linha contínua de revestimento de vidro de baixa emissão de alta potência com revestimento duradouro e tamanho personalizado
Continuous Low Emissivity Glass Coating Production Line Technical Features Identical 795mm vacuum compartment design enables flexible pump, gas separation, and cathode compartment positioning for enhanced process flexibility Advanced gas separation device prevents gas drifting between cathode ...
Sistema de revestimento a vácuo de vidro de baixa emissividade ultra transparente, controle PLC, grande capacidade
Model NO. SP-5000 Type Coating Production Line Coating Vacuum Coating Substrate Steel Certification CE Condition New Equipment Name Inline Magnetron Sputtering Vacuum Coating machine Technology DC or MID-Frequency Magnetron Sputtering Application Functional and Decorative Coating Purposes Coating ...
Linha de Revestimento a Vácuo Horizontal de Vidro Low E em Larga Escala com Revestimento por Pulverização Catódica Magnetrônica
The rotary sputter cathode has many advantages compared with planar sputter cathode, such like: Higher utilization rate of target material Higher applicable sputter power and increasing of sputter rates Stability working in AC power supply (less arcing and poisoning) Flexibility in target materials ...
