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Máquina de Revestimento por Feixe de Elétrons Ópticos com Controle PLC Touch Screen e Tamanho de Câmara de Vácuo Personalizável para Revestimento de Alta Eficiência
Máquina de Revestimento por Feixe de Elétrons Ópticos com Controle PLC Touch Screen e Tamanho de Câmara de Vácuo Personalizável para Revestimento de Alta Eficiência
Local de Origem:Zhaoqing, Guangdong
Marca:Zhongda
Certificação:CE
Quantidade mínima de pedido:1
Prazo de entrega:20
Detalhes do produto
Destacar:
Equipamento de revestimento a vácuo por íons de arco múltiplo PLC
,Máquina de revestimento PVD de porta única
Coating Warranty:
1 ano
Substrate Material:
Vidro, metal, cerâmica
Coating Type:
Óptico
Coating Deposition Rate:
1-5 Å/S.
Coating Hardness:
≥800HV
Coating Chamber Size:
Personalizável
Coating Power Supply:
fonte de alimentação de alta tensão
Coating Adhesion:
≥100N
Coating Uniformity:
±5%
Coating Material:
Arma de elétron
Coating Control System:
Tela sensível ao toque do CLP
Coating Thickness:
0,1-10 mícrons
Coating Method:
Evaporação do feixe de elétrons
Coating Temperature:
≤200℃
Coating Transparency:
≥95%
Coating Application:
Lentes ópticas, espelhos, filtros
Coating Features:
Alta eficiência, baixo custo e operação fácil
Coating Substrate:
Vidro, metal, cerâmica, etc.
Warranty:
1 ano
Vacuum Chamber Size:
Personalizável
Power Supply:
AC 220V, 50/60Hz
Application:
Revestimento de armas de elétrons
Coating Size:
Personalizável
Type:
Máquina de revestimento
Control System:
CLP + tela sensível ao toque
Coating Material:
Feixe de elétrons
Application:
revestimento por feixe de elétrons
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Sistema de Deposição de Filmes Finos Ópticos
Máquina avançada de revestimento a vácuo com canhão de feixe de elétrons, projetada para aplicações de pesquisa científica em laboratório na deposição de filmes finos ópticos.
Especificações Técnicas
| Componente | Especificação |
|---|---|
| Câmara de Vácuo | φ800×H900mm |
| Método de Aquecimento | Superior, Lateral, Inferior (opcional) |
| Sistema de Alto Vácuo | Bomba Molecular, Bomba de Difusão, Bomba Criogênica (Opcional) |
| Sistema de Baixo Vácuo | Bomba Seca, Bomba Direta, Bomba de Roots, Bomba de Palhetas Rotativas (opcional) |
| Sistema de Controle | Computador Industrial com Tela Sensível ao Toque e Controle Totalmente Automático |
| Monitor de Espessura de Filme de Cristal | Inficon XTC-3, SQC310, Shanghai MXC-3B |
| Fonte de Íons | Fonte de Íons de RF, Fonte de Íons Hall, Fonte de Íons Kaufman, Fonte de Íons de Cátodo Oco (opcional) |
| Rotação da Peça de Trabalho | Suporte de Peça de Trabalho tipo Guarda-chuva, Suporte de Peça de Trabalho tipo Rolo (opcional) |
| Canhão de Elétrons | Posição Única, Dupla, Múltiplas (opcional) |
| Unidade Criogênica | Múltiplos Fornecedores (opcional) |
| Sistema de Sonda | Sensor Rotativo de Ponto Único, 6 pontos e 12 pontos (opcional) |
| Pressão Final | ≤8.0×10⁻⁵Pa (câmara de vácuo limpa em temperatura normal, sem amostra e material de revestimento) |
| Sistema de Barreira de Vapor | Bloco de Unidade, Bloco de Duas Posições e Bloco Rotativo de Múltiplas Posições (opcional) |
| Manutenção da Pressão de Vácuo | Feche a válvula alta, grau de vácuo ≤9×10⁻²Pa após 1 hora |
| Fonte de Alimentação Necessária | Eletricidade Trifásica, 380V, 50HZ |
| Pressão de Água Necessária | 0.3-0.4Mpa |
| Peso do Equipamento | 3T-4T |
| Pressão de Ar Necessária | 0.6-0.8Mpa |
Principais Características
- Pulverização Magnétron Reativa com Assistência de Feixe de Íons de RF para AR, Evaporação para AF
- Modo One-stop para Multi-revestimento: Revestimento Superior AR com AF e Camadas com Dureza 9H+ Processo
- Ampla Seleção de Materiais e Tipos Completos de Filmes
- Excelente Precisão de Filme, Dureza, Resistência à Abrasão e Aderência
- Características Naturais de Tensão Residual Zero
- Estabilidade Superior de Processamento, Uniformidade e Repetibilidade
- Interface Amigável com Operação Intuitiva
- Alto Rendimento e Baixo Consumo de Energia
Aplicações
Revestidores ópticos controlam as características de luz revestindo as superfícies de componentes ópticos, permitindo desempenho óptico preciso em múltiplos setores.
Principais Áreas de Aplicação
- Equipamentos Ópticos: Revestimento Antirreflexo para Lentes de Câmera/Microscópio, Revestimento de Alta Reflexão para Espelhos, Filtro para Espectrômetro
- Comunicação Óptica e Fotovoltaica: Revestimento antirreflexo para dispositivos de fibra óptica, revestimento antirreflexo para células solares, revestimento para componentes de multiplexação por divisão de comprimento de onda
- Display e Iluminação: Filme antirreflexo para tela, filme divisor de feixe para projetor, filme refletor para lâmpada LED
- Tecnologia a Laser: Revestimento de alta reflexão para ressonador a laser, filme resistente a altas temperaturas para cabeça de processamento a laser
- Vidro Funcional: Filme Low-E para arquitetura, filme protetor solar para carros, filtro óptico
- Outros Campos: Filme antirradiação para lentes de sensoriamento remoto aeroespacial, filme antiembaçante para endoscópios médicos
Capacidades Avançadas
Equipado com instrumento de controle de espessura de filme de cristal de quartzo ou óptico para controle automático e preciso da espessura do filme.
O dispositivo de bombardeamento iônico purifica as superfícies do substrato para uma adesão superior entre as camadas de filme e os substratos.
O canhão de elétrons de cadinho grande garante superfícies de material de filme lisas e distribuição uniforme durante a evaporação.
O controlador programável (PLC) com interface de tela sensível ao toque (HMI) permite operação fácil e alternância entre controle manual/totalmente automático.
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