마그네트론 스퍼터링 기술과 이온 플레이팅 기술을 융합하여 진공 환경에서 이온 충격과 증착을 통해 고성능 필름을 제조합니다.
기술적 특징 및 장점
복합 기술 통합: 마그네트론 스퍼터링과 이온플레이팅 기술을 결합하여 필름층의 색상 일관성, 증착속도, 화합물 조성의 안정성을 향상시킵니다.
유연한 구성: 여러 구조적 타겟 위치가 예약되어 있으며 다양한 요구 사항을 충족하기 위해 마그네트론 스퍼터링 시스템, 음극 아크 시스템, 전자빔 증발 시스템, 저항 증발 시스템, CVD/PECVD, 이온 소스, 바이어스 전압 시스템, 가열 시스템, 3차원 고정 장치 등을 선택적으로 장착할 수 있습니다.
성능상의 이점: 코팅된 필름층은 접착력이 강하고 밀도가 높아 제품의 염분무성, 내마모성, 표면경도를 효과적으로 향상시킬 수 있어 고성능 필름층 제조에 적합합니다.
적용 가능한 시나리오 및 자료
주요 용도: 각종 대학 및 연구기관에서 원소금속층(예: 티타늄, 크롬, 은, 구리) 또는 금속화합물 필름층(예: TiN, TiCN, TiC, TiO2, TiAlN, CrN, ZrN, CrC 등)을 준비하기 위한 실험연구에 사용됩니다.
도금할 수 있는 재료: 스테인레스 스틸, 수도금 하드웨어 부품, 플라스틱 부품, 유리, 세라믹 등 다양한 기판을 지원합니다.
색상 효과: 딥 블랙, 인퍼니스 골드, 로즈 골드, 이미테이션 골드, 지르코늄 골드, 사파이어 블루, 브라이트 실버 등 다양한 컬러 코팅이 가능합니다.
장비 구조 및 작동
구조적 특징: 매력적인 외관, 콤팩트한 구조, 작은 바닥 공간, 자동 제어 시스템 장착(예: 오른쪽 제어 캐비닛), 간단하고 유연한 작동, 안정적인 성능 및 손쉬운 유지 관리.
핵심 구성요소: 여기에는 진공 챔버(왼쪽 흰색 본체), 진공 시스템, 전원 공급 시스템, 제어 및 기록 시스템(예: 오른쪽 제어 캐비닛의 디스플레이 화면, 버튼 및 표시 등), 대상 위치 시스템(예: 뒷면의 수냉식 원통형 음극 아크 소스 대상, 고리 모양 양극) 등이 포함됩니다.