प्लास्टिक उत्पादों, हार्डवेयर भागों, आभूषणों के लिए प्रतिरोध वाष्पीकरण कोटिंग उपकरण

उपकरण परिचय

प्रतिरोध वाष्पीकरण कोटिंग उपकरण भौतिक वाष्प जमाव (PVD) उपकरण का एक मुख्य प्रकार है, जो मुख्य रूप से एक वैक्यूम चैंबर, प्रतिरोध वाष्पीकरण स्रोत, वैक्यूम सिस्टम, सब्सट्रेट रैक, तापमान नियंत्रण प्रणाली, आदि से बना है।

कार्य सिद्धांत

ऑपरेशन में, सबसे पहले वैक्यूम चैंबर को निर्धारित वैक्यूम डिग्री तक खाली करें, फिर विद्युत प्रवाह के माध्यम से प्रतिरोध हीटिंग तत्व को गर्म करें, जिससे हीटिंग तत्व पर रखा गया वाष्पीकरण सामग्री (धातु, मिश्र धातु, यौगिक, आदि) पिघल जाए और वाष्पीकृत हो जाए। गैसीय परमाणु या अणु सीधी रेखा में चलते हैं और कोटिंग किए जाने वाले सब्सट्रेट की सतह पर जमा हो जाते हैं, जिससे अंततः एक समान फिल्म बनती है।

मुख्य विशेषताएं

संरचना सरल और संचालित करने में आसान है, जिसमें कुछ ही मुख्य घटक हैं और कम रखरखाव लागत है।

इसमें उच्च ताप दक्षता, तेजी से तापमान वृद्धि होती है, और यह सामग्री को जल्दी से वाष्पीकृत कर सकता है, जिसके परिणामस्वरूप अपेक्षाकृत कम कोटिंग चक्र होता है।

उपकरण खरीद मूल्य इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और अन्य उपकरणों की तुलना में कम है, और परिचालन ऊर्जा खपत अपेक्षाकृत कम है।

मुख्य अनुप्रयोग

ऑप्टिक्स के क्षेत्र में: ऑप्टिकल लेंस के लिए एंटी-रिफ्लेक्शन फिल्म और रिफ्लेक्टिव फिल्म तैयार करना, जैसे कि चश्मे के लेंस और कैमरा लेंस के लिए सिंगल या मल्टी-लेयर ऑप्टिकल फिल्म।

इलेक्ट्रॉनिक्स के क्षेत्र में:सेमीकंडक्टर उपकरणों और इलेक्ट्रॉनिक घटकों के लिए इलेक्ट्रोड फिल्म और प्रवाहकीय फिल्म का निर्माण, जैसे कि एकीकृत सर्किट लीड और कैपेसिटर इलेक्ट्रोड के लिए धातु फिल्म।

सजावट क्षेत्र:प्लास्टिक उत्पादों, हार्डवेयर भागों, आभूषणों आदि के लिए सजावटी फिल्मों की कोटिंग, जैसे मोबाइल फोन के आवरण और एक्सेसरीज़ के लिए सोना और चांदी की कोटिंग।

अन्य क्षेत्र:पैकेजिंग सामग्री की सतह पर एल्यूमीनियम फिल्म कोटिंग पर शोध (जैसे खाद्य पैकेजिंग के लिए एल्यूमीनियम पन्नी), सेंसर की सतह पर कार्यात्मक फिल्मों की तैयारी, और प्रयोगशाला नमूनों के लिए फिल्म तैयारी।