Máy phủ chân không PVD Plasma Ion Đa Cung Ưu điểm chính Tốc độ lắng đọng cao: Đạt độ dày màng 1–5 μm/h, lý tưởng cho sản xuất quy mô lớn. Độ cứng & Khả năng chống mài mòn: Lớp phủ như TiAlN thể hiện đ...Xem thêm
Tin nhắn của khách truy cậpĐể lại tin nhắn
Chưa có ý kiến công khai
Máy phủ chân không PVD Plasma Ion Đa Cung Nitride Chrome/ Màng Nitride Titan Thiết bị phủ Ion Hồ quang Plasma