Mesin Pelapisan Vakum PVD Plasma Ion Multi-Arc Keunggulan Utama Laju Deposisi Tinggi: Mencapai ketebalan film 1–5 μm/jam, ideal untuk produksi skala besar. Kekerasan & Ketahanan Aus: Lapisan seperti ...Lihat Lebih Lanjut
Pesan pengunjungTinggalkan Pesan
Belum ada komentar publik
Mesin Pelapisan Vakum PVD Plasma Ion Multi Arc Film Krom Nitrida/Titanium Nitrida Peralatan Pelapisan Ion Plasma Arc