تجهیزات ویژه برای اسپتر کردن مغناطیسی برای ذخیره طلا خالص
تجهیزات اسپتر کردن مغناطیسی برای طلا
,دستگاه پوشش خلاء برای طلا خالص
,تجهیزات اسپتر کردن طلا
-
1. سیستم محفظه خلاء
جنس: فولاد ضد زنگ 304/316L، پولیش آینهای، ضد آلودگی، تمیز کردن آسان
ساختار: محفظه عمودی دایرهای / مربعی، تضمین کننده رسوب یکنواخت ذرات طلا
عملکرد: فراهم کردن محیطی بسیار تمیز و خلاء بالا برای رسوب طلا
-
2. سیستم دستیابی به خلاء
خلاء خشن: پمپ پرهای دوار + پمپ روتس
خلاء بالا: پمپ مولکولی (مورد نیاز برای رسوب طلا، بدون روغن، تمیز)
درجه خلاء: ≤ 5×10⁻⁴ پاسکال (هرچه خلاء بالاتر باشد، لایه طلا خالصتر و درخشانتر خواهد بود)
-
3. منبع اسپاترینگ مغناطیسی (هسته)
تفنگ اسپاترینگ مغناطیسی ویژه هدف طلا (دایرهای / مستطیلی)
منبع تغذیه: منبع تغذیه کنترل مغناطیسی DC (DC)
جنس هدف: هدف طلای با خلوص بالا 99.99% Au
ویژگیها: اسپاترینگ پایدار، نرخ استفاده بالا از طلا، لایه فیلم بسیار یکنواخت
-
4. نگهدارنده قطعه کار و سیستم انتقال
چرخش سیارهای + خود چرخش (مورد نیاز برای رسوب طلا)
تضمین کننده 360 درجه بدون نقطه کور، سازگاری ضخامت خوب
قابلیت مجهز شدن به مکانیزمهای چرخش، نوسان، و برگرداندن
-
5. سیستم گرمایش / سرمایش قطعه کار
گرمایش: افزایش چسبندگی لایه طلا
سرمایش با آب: محافظت از محفظه، هدف، و منبع تغذیه در برابر گرمای بیش از حد
محدوده کنترل دما: دمای اتاق تا 200 درجه سانتیگراد قابل تنظیم
-
6. سیستم کنترل گاز
کنترل دقیق توسط کنترل کننده جریان جرمی (MFC)
فقط از گاز آرگون با خلوص بالا Ar استفاده میشود (رسوب طلا معمولاً به گاز واکنشزا نیاز ندارد)
فشار پایدار، ضخامت و رنگ فیلم سازگار
-
7. سیستم کنترل الکتریکی و خودکار
PLC + صفحه لمسی
خودکار: پمپاژ خلاء → اسپاترینگ → پر کردن گاز → باز کردن درب
قابلیت ذخیره چندین فرمول فرآیند رسوب طلا
-
8. سیستم تشخیص خلاء و ایمنی
گیج پیرانی + گیج یونیزاسیون
حفاظت در برابر ولتاژ بیش از حد، جریان بیش از حد، کمبود آب، دمای بیش از حد
قفل ایمنی برای جلوگیری از عملکرد تصادفی
-
1. کیفیت لایه فیلم بسیار بالا
لایه طلا دارای خلوص بالا، ساختار متراکم، بدون سوراخ سوزنی
سطح ظریف، درخشان، با بافتی نزدیک به طلای خالص
ضخامت قابل کنترل دقیق در سطح نانومتر (0.02 - 1 میکرومتر)
-
2. چسبندگی فوقالعاده قوی
محیط خلاء + تمیز کردن یونی
لایه طلا مستعد پوستهپوسته شدن نیست، مقاوم در برابر سایش و خراش
-
3. بهترین یکنواختی در صنعت
قاب سیارهای + اسپاترینگ مغناطیسی
رنگ و ضخامت کل دسته محصولات تقریباً سازگار است
مناسب برای جواهرات، زیورآلات، قاب ساعت، عینک، قطعات دقیق
-
4. سازگار با محیط زیست و ایمن
بدون سیانور، بدون مایع زائد، بدون آلودگی فلزات سنگین
بسیار بهتر از آبکاری الکترولیتی سنتی
مطابق با الزامات زیست محیطی جواهرات سطح بالا
-
5. مواد پایه قابل استفاده گسترده
فولاد ضد زنگ، آلیاژ تیتانیوم، مس، نقره
سرامیک، شیشه، برخی پلاستیکهای سخت
تا زمانی که بتواند دمای بالا را تحمل کند، قابل آبکاری است
-
6. مزیت هزینه و بازده
نرخ استفاده از هدف طلا بالاتر از قوس چندگانه و تبخیر است
لایه نازک نیز میتواند به اثر طلای خالص دست یابد، باعث صرفهجویی در طلا میشود
بازده بالا، کم بودن نیاز به بازسازی
-
7. ظاهر قابل تنظیم
قابل آبکاری: طلای خالص 24 عیار، طلای 18 عیار، طلای روشن، طلای گرم، طلای شامپاینی
رنگ پایدار، بدون انحراف رنگ، بدون سیاهی
دستگاه پوشش خلاء تبخیر حرارتی دو درب با یکنواختی پوشش 95% و اندازه محفظه قابل تنظیم
Thermal Evaporation PVD Vacuum Coating Machine Double doors plastic metallized thermal evaporation PVD vacuum plating coating machine for coating aluminum film, compatible with UV spray lines. Thermal Evaporation Technology Thermal evaporation is a physical vapor deposition (PVD) technique for ...
دستگاه پوشش خلاء تبخیر رسوب فیزیکی 380 ولت با ظرفیت بالا
warranty 1 Year type Coating Production Line voltage 380Vb or customizable coating Vacuum Coating core components PLC, motor, Gear, Pump, vacuum machine chamber video outgoing-inspection Provided machinery test report Provided key selling points Free training/easy to operate substrate stainless ...
1. Core Definition and Function Through the "vacuum evaporation" technology in Physical Vapor Deposition (PVD), this equipment heats aluminum material to evaporate it into an atomic/molecular state. In a vacuum environment, these aluminum particles are uniformly deposited on the surface of plastic ...
دستگاه پوشش پرتو الکترونی با سیستم PLC
I. Core Structure Vacuum system Core components: Vacuum chamber, molecular pump, mechanical pump, vacuum gauge (ionization type/resistance type). Function: It provides a high vacuum environment of 10⁻³ to 10⁻⁶ Pa, reducing electron beam scattering, target material oxidation and film contamination, ...
